开始运行，大概也就十几秒钟过后，一片十二寸硅晶圆就被送下了机台。

其实，光刻机工作度是很快的，每小时出片两百张以上，完全不存在任何问题。

制约产能的主要是沉积设备，pVd和cVd这类，其次是刻蚀设备包括Icpp，dIe这几种机台，另外热处理设备工作效率也十分感。

一条月产能一万片十二寸晶圆的fb制造线，光刻机或许只有四五台，但刻蚀机，却起码要有六十台起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百台以上的刻蚀机。

目前，中微半导体的介质刻蚀技术，硅通孔刻蚀技术，位列全球前三，全球最牛的半导体代工厂台积电，生产线上就有成百上千台来自中微的刻蚀机，算是国产半导体行业里比较争气的存在。

“成了！”

“一次出片成功，比我预想的还要顺利！”

“不愧是昆仑集团啊，临时加进来的光学系统，竟然和旧机台配合的这么好！”

实验室里，穿着全套无尘服的工程师，取下十二寸硅晶圆，仔细看，会现上面出现了密密麻麻，无比繁杂的线条，灯光下亮晶晶的，甚是喜。